德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子

公司簡介：

ADL Analoge & Digitale Leistungselektronik GmbH是一家開發(fā)和制造商，生產(chǎn)電源和發(fā)電機，以及用于特殊工業(yè)應用和研究機構(gòu)的電力電子設(shè)備。

ADL 濺射技術(shù)在產(chǎn)品和鍍膜設(shè)計方面擁有 30 多年的經(jīng)驗和專業(yè)知識。這種專業(yè)知識使 ADL 成為各種薄膜涂層合作伙伴 - 用于顯示器、箔、玻璃、硬涂層、工具、裝飾表面、微電子等等。

產(chǎn)品介紹：

離子源電源GG 12 Beam 

產(chǎn)品特點：

在離子束和等離子體工藝技術(shù)中的廣泛應用

蝕刻、濺射等等

創(chuàng)新應用，例如微電子、光學和傳感器

工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域

鍍膜工藝：在光學鍍膜、硬質(zhì)涂層等工業(yè)鍍膜過程中，ADL GG 12 Beam 為離子源提供穩(wěn)定的電力，使離子能夠均勻地轟擊靶材，實現(xiàn)高質(zhì)量的薄膜沉積。這種高質(zhì)量的鍍膜可以提高產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性、光學性能等，廣泛應用于眼鏡鏡片、刀具、汽車零部件等產(chǎn)品的表面處理。

半導體制造：在半導體芯片制造過程中，用于離子蝕刻、離子注入等關(guān)鍵工藝。通過精確控制離子源的參數(shù)，實現(xiàn)對芯片結(jié)構(gòu)的高精度加工和摻雜，確保芯片的性能和可靠性。例如，在芯片的光刻工藝之后，利用離子蝕刻技術(shù)可以精確地去除不需要的半導體材料，形成復雜的電路結(jié)構(gòu)；而離子注入則可以精確地控制半導體中的雜質(zhì)濃度，從而調(diào)節(jié)晶體管的性能。

型號列表：

GG 03 Accelerator    09Z001

GG 03.1 Accelerator   09Z002

GG 08 Accelerator      09Z005

GG 12 Beam                09Z011

GG 12.1 Beam             09Z012

德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子